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日本のリソグラフィ用光源市場は、いまどのような状況にあるのでしょうか。本記事では国内市場の動向を、需要側の変化と主要な用途から整理します。
国内市場の現状
日本におけるリソグラフィ用光源市場は、主に半導体製造装置メーカーや先端ロジック・メモリデバイスメーカーが主要な購買層であり、特にEUV（極端紫外線）光源は最先端ロジックや3D NANDフラッシュの量産向けに需要が集中しています。近年では、ArF液浸用光源の微細化対応が一段落し、EUV光源の量産安定化へシフトしており、光源の高パワー化やダウンタイム低減が技術的な焦点となっています。需要を押し上げる要因としては、先端半導体の微細化競争や、世界的な半導体需要の高まりに伴う設備投資の増加が挙げられます。一方で、抑制要因としては、EUV光源システムの導入コストの高さやメンテナンスの複雑さが中小規模の製造業者にとっては障壁となっており、さらに地政学的リスクによるサプライチェーンの不確実性や、日本の半導体産業における人材不足も市場拡大の足かせとなっています。また、国内市場では既存のKrFやi線光源を用いた特殊用途向けの需要も堅調ですが、全体としては先端光源への集約が進んでいる状況です。
主な用途
- 統合デバイスメーカー (IDM)
- ファウンドリー
- その他
用途別に見た需要
日本におけるリソグラフィ用光源の需要は、主に集積デバイスメーカー(IDM)、ファウンドリ、そしてその他の半導体関連企業の三つのセグメントから生じています。IDMセグメントは、独自の製造ラインを持つ大手電機メーカーを含み、成熟した市場であり、主に既存のArFやKrF光源の保守・更新需要が中心で、新規導入は限定的です。一方、ファウンドリセグメントは、最先端ロジック半導体の受託生産を担う企業が主体で、成長市場です。特にTSMCやSamsungなどの外資系ファウンドリが日本に研究開発拠点を置く動きや、日本発の先端ファウンドリであるRapidusのプロジェクトにより、EUV光源や高NA向けの最新光源に対する旺盛な需要が生まれています。その他のセグメントとしては、メモリメーカー、センサーやパワー半導体に特化したデバイスメーカー、そして大学や研究機関が挙げられます。メモリ分野は微細化競争が続くため成長が期待される一方、パワー半導体向けは比較的成熟しており、i線やKrF光源の需要が安定的に存在します。研究機関向けは、次世代リソグラフィ技術の開発に伴い、特殊な光源への需要が限定的ながらも発生しています。
市場に関わる主要企業
- Cymer(ASML)
- Gigaphoton
- Beijing RSLaser Opto-Electronics Technology
- Optosystems
- USHIO
今後の見通し
半導体製造におけるリソグラフィ用光源の日本市場は、予測期間中に年平均成長率12.6%で拡大すると見込まれています。この成長の主な原動力は、AIや5G通信などの先端テクノロジーに対応する微細化の需要増加であり、特にEUV(極端紫外線)光源やArF液浸光源への投資が継続すると予想されます。しかし、この見通しに最も影響を及ぼす要因は、半導体製造装置の部材供給網の安定性です。特に光源向け特殊部品や高純度材料の調達リスクが課題であり、地政学的緊張やサプライチェーンの混乱が生じれば、装置メーカーや半導体ファブの生産計画に遅れが生じる可能性があります。また、政府の半導体戦略による国内生産奨励策や、海外顧客向け輸出規制の動向も、市場の成長速度を左右する重要な変数となっています。
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